TSMC говорит о своей R&D-стратегии
На днях тайваньская компания
![TSMC](https://novostey.com/i4/2009/07/08/a4d76cb725254f71047bc15848592e08.jpg)
Итак, в качестве одного из важнейших направлений развития руководство TSMC видит разработку передовых технологий по производству CMOS-микросхем. Впрочем, помимо этого существенное внимание будет уделяться аналоговым, радиочастотным микросхемам, сенсорам изображения и микроэлектромеханическим системам. Это означает не только усовершенствование технологий изготовления уже разработанных устройств, но и выпуск новых типов продукции, расширение её ассортимента.
Отдельно стоит отметить работу по подписанию соглашения с французскими исследователями и разработчиками из института CEA-Leti. В случае заключения договоренности обе стороны будут в совместном режиме работать над проектом IMAGINE. Главным направлением исследований станет разработка технологии изготовления интегральных микросхем с использованием так называемой «безмасковой» литографии. Этот метод планируется применять при изготовлении 22-нм полупроводниковой продукции, и микросхем следующих поколений.
![TSMC](https://novostey.com/i4/2009/07/08/5d31c336a1a7d8b0fc4b64a4e1960f75.jpg)
Впрочем, руководство говорило и о менее отдаленных планах. Например, уже в первом квартале 2010 года TSMC планирует начать изготовление первых 28-нм интегральных микросхем. Примерно год уйдет на доводку техпроцесса, и если все пойдет по заранее намеченному плану, уже в начале 2011 года 28-нм микросхемы поступят в серийное производство.
Не менее важным оказывается и расширения персонала компании. На данный момент во благо TSMC трудятся около 1800 специалистов, но уже в скором времени их числе увеличится на треть. Одновременно руководство компании рассчитывает на двадцать процентов поднять бюджет, выделяемый на проведение исследовательских работ.