Пожар на берлинском заводе ASML затронул производство оптики для EUV-сканеров — это может сорвать сроки освоения тонких техпроцессов

Как сообщалось, накануне на берлинском заводе нидерландской компании ASML вспыхнул пожар. Огонь распространился на площади около 200 м2 из 32 тыс. м2 производственных помещений завода. Согласно предварительным выводам специалистов, пожар, скорее всего, повредил линии по производству оптических компонентов для сканеров диапазона EUV. Данное обстоятельство может привести к срыву сроков перехода на более совершенные техпроцессы.

Источник изображения: ASML

Сканеры EUV с длиной волны 13,5 нм для выпуска логических чипов сегодня используют только две компании — Samsung и TSMC. Чуть меньше использование сканеров EUV при производстве памяти, что уже реализовали Samsung и SK Hynix. Тем самым задержка с поставками литографических сканеров данного диапазона рискует затронуть производителей процессоров и другой логики, которые расширяют выпуск 7- и 5-нм продукции, а также готовятся к массовому запуску 3-нм линий.

В то же время всё может оказаться не так плохо, если у ASML есть возможность обеспечить поставки оптических компонентов с производственных площадок в других местах. Наконец, цикл изготовления каждого фотолитографического сканера длится от одного года до полутора лет, поэтому компания может продолжить сборку установок, спокойно дожидаясь восстановления повреждённых огнём производственных участков.

Добавим, официального заявления с оценкой ущерба пока не сделано. Окончательно судить о масштабах и последствиях происшествия пока нельзя.