ArF лазер для норм 45-нм и менее

Производитель лазеров для литографического оборудования, компания Cymer, анонсировала лазер на основе фторида аргона (ArF) для применения в иммерсионной литографии. В данный момент полупроводниковая индустрия активно использует DUV (deep ultraviolet) лазеры от данной компании, но перспективный 45-нм техпроцесс потребует уже другие технологии. По сравнению со своим предшественником, ArF лазер способен улучшить энергетическую стабильность на 50% и снизить производственные затраты более чем на 20%.
По прогнозам специалистов, иммерсионная литография станет следующей фазой развития DUV оборудования с длиной волны 193-нм. Перспективная EUV (extreme ultraviolet) технология пока остается слишком дорогой и потребует от производителей существенных капитальных вложений. EUV установки позволят в будущем достичь размеров полупроводников порядка 13,5 нм. По сравнению с традиционной литографией, иммерсионная предполагает наличие жидкости между обрабатываемой подложкой и оптикой. Предполагается, что эра EUV литографии придет с производством по 32-нм нормам примерно в 2009 году. Хотя инженерам IBM удалось создать структуры размером 29,9-нм еще с помощью иммерсионных технологий.